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光刻胶
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更新时间:2025-01-15

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CAS号: 1707-68-2
药典: 企业标准
级别: 药用级
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产品详情
产品关键词: 光刻胶
是否为生产商:
主要销售市场: 北美洲,中/南美洲,西欧,东欧,大洋洲,亚洲,中东,非洲
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产品描述:

产品名称:光刻胶 药用级

AI产品描述:
以下内容为AI生成,仅供参考
光刻胶(Photoresist)是一种用于半导体制造和微电子工业的光敏材料,分子式因具体成分而异,常见类型包括正性光刻胶和负性光刻胶。CAS号因种类不同而不同,例如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)光刻胶的CAS号为9011-14-7。光刻胶主要用于光刻工艺中,通过曝光和显影形成微细图案,是集成电路、显示屏、MEMS等制造中的关键材料。其性能直接影响器件精度和良率,具有高分辨率、灵敏度和抗蚀性等特点。
徐州博康信息化学品有限公司
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